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ナノテクノロジーとレジスト材料

山岡亞夫監修. -- シーエムシー出版, 2007. -- (CMCテクニカルライブラリー ; 256). <BB01324873>
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ナノテクノロジーとレジスト材料

山岡亞夫監修. -- シーエムシー出版, 2007. -- (CMCテクニカルライブラリー ; 256). <BB01324873>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 コメント 返却予定日 予約
0001 長岡技大 閲覧室(3階) 549.7||Y42 10944254 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 長岡技大
配置場所 閲覧室(3階)
請求記号 549.7||Y42
資料ID 10944254
状態
コメント
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 ナノテクノロジーとレジスト材料 / 山岡亞夫監修
ナノテクノロジー ト レジスト ザイリョウ
出版・頒布事項 東京 : シーエムシー出版 , 2007.4
形態事項 vi, 253p ; 21cm
巻号情報
ISBN 9784882319214
書誌構造リンク CMCテクニカルライブラリー||CMC テクニカル ライブラリー <BB01290919> 256//a
その他の標題 その他のタイトル:新しいレジスト材料とナノテクノロジー
アタラシイ レジスト ザイリョウ ト ナノテクノロジー
その他の標題 標題紙タイトル:Nano technology and polymer resist
注記 初版 (2002年) のタイトル: 新しいレジスト材料とナノテクノロジー
学情ID BA81772932
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 山岡, 亜夫(1939-)
ヤマオカ, ツグオ <NC:DA02406640>
分類標目 電子工学 NDC8:549.7
分類標目 電子工学 NDC9:549.7
分類標目 NDC7:549.3
件名標目等 リソグラフィー||リソグラフィー
件名標目等 ナノテクノロジー||ナノテクノロジー
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